型 号：M系列
制 造 商：深圳市矩阵多元科技有限公司
存 放 地 点：550栋110
主要功能及特色
大面积高通量脉冲激光沉积系统是行业领先的定制化沉积设备，专为制备高质量薄膜与组合材料样品而设计。其主要特色包括：
大面积均匀沉积：配备多维度激光光路自动调节系统，可实现高均匀性扫描与羽辉精细调控，支持最大3英寸原子级平整样品的制备。
高通量组合制备：集成多靶台与XY双轴高精细掩膜模块，能够实现成分、厚度及工艺梯度等多种高通量样品的高效制备。
原位动态监测：搭载反射高能电子衍射仪，可实时监测薄膜生长过程，为原子级精确控制提供关键数据支持。
主要技术指标
基片最大尺寸3英寸，靶台最大尺寸2英寸、靶台位3个或1英寸6靶台位；
加热方式辐射式加热，最高温度1000℃，最大升温速率10℃/min；
极限背景真空度5×10-7Pa；
靶台运动方式自转+公转，可实现XY平面内线性扫描；
激光聚焦镜XY平面内编程化运动。
主要附件及配置
电阻式加热器，最高温度900℃，尺寸1英寸，升温速率最高为25℃/min；
1、2、3英寸模块化基片支架；
1和2英寸靶台支架各1套；
反射高能电子衍射仪，实时监测生长动力学过程；
普发公司80泵组3套，提供快速的（＜5 min）进样室取放样操作。
用户须知
需经过培训获得操作资格后才能使用，或由已培训的人员代为测试。
