
型 号:TI980
制 造 商:Quantum Design JAPAN
存 放 地 点:550栋319
主要功能及特色
高温难熔材料单晶生长:面向约2600–3000 ℃高熔点、高热导率及高饱和蒸汽压材料,实现稳定可控的激光浮区单晶生长。
均匀加热与材料广泛适用性:采用激光能量加热料棒使熔区能量分布更均匀,可生长多类传统方法(如布里奇曼法/常规浮区法)难以覆盖的材料体系。
多学科与特殊材料制备能力:适用于凝聚态物理、化学、半导体与光学等领域单晶制备,并可用于部分亚稳定态材料的制备与探索。
主要技术指标
激光束聚焦加热:
①5束激光可控聚焦加热;
②单束激光功率最高400W,总功率最高2000W;
③样品腔加热最高温度大于2600℃;
真空/加压环境下单晶生长
①最大工作压力可达10bar;
②最优真空低于0.05Pa;
自动化控制生长速率
①传动装置最大位移长度可达150 mm;
②传动装置最大位移速率可达299 mm/hour;
③传动装置最大旋转速率可达99 rpm;
挥发沉积水凝处理系统
样品腔内具有挥发物收集装置,具有降低样品腔内壁污染的装置;
生长监控系统
具有高清摄像机,视频监视器,实时温度集成反馈控制系统;
主要附件及配置
激光浮区炉主体
高真空系统选件
机械传动装置
气体控制系统
监控装置
用户须知
需经过培训获得操作资格后才能使用,或由已培训的人员代为测试。


