电子束蒸镀系统

E-beam Evaporation System

稿件来源：广东省磁电物性分析与器件重点实验室 编辑：办公室 发布日期：2026-02-06

 

 

 

 

 

 

 

 

 

型         号：FG1800/750TS

制   造   商：Angstrom Engineering Inc

存 放 地 点：571栋102

 

主要功能及特色

  1. 多工艺PVD薄膜制备：支持电子束蒸发与热阻蒸发等工艺，可对金属膜（Al/Cu/Au等）与介质膜（SiO₂/Al₂O₃等）实现高精度沉积，满足科研与小批量制备需求。
  2. 高一致性与多源灵活性：具备精准的膜厚与均匀性控制能力，并支持多源共蒸与工艺快速切换，适用于复杂多层结构与功能薄膜制备。
  3. 稳定易用与安全可靠：搭载Aeres镀膜控制软件，真空系统响应快、运行稳定，提供自动/手动双模式及安全联锁设计，兼顾效率与操作安全。

 

主要技术指标

1.沉积室核心参数

 

 

（1）腔室尺寸：400mm（长）×400mm（宽）×710mm（高），矩形铝制结构，前后开门设计

（2）真空性能：极限真空度可达 5×10⁻⁷ Torr，配备 685L/s 抽速分子泵；暴露大气后恢复至 2×10⁻⁵ Torr≤20 分钟

（3）膜层精度：膜厚不均匀性≤±5%，速率精度优于 0.1 Å/s，厚度分辨率优于 0.01Å

（4）控制模式：全PC自动控制（基于Windows 系统），支持自动与手动双模式切换，集成工艺数据实时追踪功能

 

2.进样室配置

 

 

（1）样品容量：可放置 2 个样品板及 2 个掩模板，样品台支持 Z 轴升降调节

（2）真空系统：配备独立真空系统，保障样品转移过程中真空环境稳定性

 

3.蒸发源参数

 

 

（1）电子束蒸发源：1 套电子枪（6kW 功率），带 6 个坩埚，支持扫描模式；2 个热阻蒸发源，电源功率 2.5kW

（2）功能特性：电子枪具备自动对位装置与程序化控制，配备独立挡板，支持单源蒸发与多源共蒸

 

4.样平台性能

 

 

（1）基础功能：支持 0-50 转 / 分钟无极调速旋转，具备水冷功能与上下调节功能（调节距离 4 英寸）

（2）样品兼容：可固定直径≤6 英寸的各类形状及尺寸样品

（3）辅助配置：配 3 个膜厚检测探头，晶振探头固定于刚性支架，带水冷系统提升读数准确性

 

5.手套箱配置参数

 

 

（1）工位设计：双工位配置，尺寸可集成沉积室与进样室

（2）环境控制：内部水含量≤1ppm，氧含量≤1ppm

 

主要附件及配置

  1. 电子束蒸发源（含 6 个坩埚）及 2 个热阻蒸发源

  2. 双工位手套箱（集成式设计）

  3. 3个带水冷功能的膜厚检测探头

  4. Aeres 镀膜控制软件（含配方编辑、数据日志、远程诊断功能）

  5. 独立真空系统（分子泵 + 前级泵）

  6. 安全接地装置与除余电保护枪

 

用户须知

需经过培训获得操作资格后才能使用，或由已培训的人员代为测试。