
型 号:IR-furnace
制 造 商:Quantum Design JAPAN
存 放 地 点:550栋102
主要功能及特色
采用镀金双面镜与高反射曲面设计,加热温度可达2100℃–2200℃。光源采用商业化标准卤素灯,配合稳定的电源输出,保证灯丝加热功率恒定,确保温度控制精准可靠。
系统内置闭循环冷却系统,无需外接水冷装置,具有高效节能特点。设备占地面积小,采用独立支撑结构,操作简便,易于上手。
可在无坩埚污染的条件下生长大块高质量单晶,满足高纯度晶体材料的制备需求。
主要技术指标
加热区温度:≥2100℃
上下料棒轴行程:≥15cm
上下料棒轴旋转轴转速:≥36rpm
晶体生长速度:≥290 mm/hr
上下料棒轴可以独立控制位移和旋转
反射镜类型:镀金椭球反射镜
反射镜数量:≥2只
卤素灯功率:单个≥650W
卤素灯数量:≥2个
卤素灯电压调节范围:0~100V
真空度:优于10×10-4 torr
生长腔压强:≥10 bar
样品夹具直径:≥6 mm
控制系统:除手动控制之外,可用带触摸屏的电脑控制
主要附件及配置
Basic system
Remote control option
Slower shaft rotation gear set
Hydrostatic pressure kit
用户须知
需经过培训获得操作资格后才能使用,或由已培训的人员代为测试。


